Существует два основных типа материалов, используемых при производстве стекла для рамок с низкой отражающей способностью: однослойное пленочное стекло с низкой отражающей способностью и другое многослойное пленочное стекло с низкой отражающей способностью.
Однослойное слабоотражающее пленочное стекло представляет собой слой слабоотражающей пленки толщиной несколько нанометров, нанесенный на поверхность стекла, и отражательная способность этого стекла обычно может быть снижена до уровня менее 0,5%. Пленка с низким коэффициентом отражения обычно представляет собой многослойную пленочную структуру, состоящую из различных материалов, таких как оксид кремния, фторид магния, нитрид кремния и т. д., которая образует слой микроструктуры на поверхности стекла, тем самым достигая цели уменьшения отражения.
Многослойное пленочное стекло с низкой отражающей способностью изготовлено из нескольких слоев пленки с низкой отражающей способностью из различных материалов для достижения эффекта уменьшения отражения за счет принципа оптической интерференции. Отражательная способность этого типа стекла может быть снижена до менее 0,1%, что даже лучше по сравнению с однослойным пленочным стеклом с низким коэффициентом отражения.
Влияние этих материалов на стекло рамы для картин с низким коэффициентом отражения в основном проявляется в следующих аспектах:
Отражательная способность: материалы, используемые при производстве стекла для фоторамок с низким коэффициентом отражения, могут уменьшить отражательную способность стекла, что делает изображение на поверхности стекла более четким, а цвета более яркими.
Устойчивость к истиранию: материалы для производства стекла для фоторамок с низким отражением могут улучшить стойкость стекла к истиранию, тем самым продлевая срок службы стекла.
Светопропускание: материалы, используемые при производстве стекла для фоторамок с низким коэффициентом отражения, могут улучшить светопропускание стекла, тем самым делая изображение на поверхности стекла ярче, а детали более четкими.
Устойчивость к ультрафиолетовому излучению: материалы, используемые при производстве стекла для фоторамок с низким коэффициентом отражения, могут улучшить устойчивость стекла к ультрафиолетовому излучению, тем самым защищая изображение от повреждения ультрафиолетовыми лучами.
Антибликовый: материалы, используемые при производстве стекла для фоторамок с низким коэффициентом отражения, могут образовывать слой микроструктуры на поверхности стекла, который может уменьшить отражение и достичь антибликового эффекта.
В целом, материал изготовления стекла для фоторамки с низким коэффициентом отражения оказывает важное влияние на характеристики стекла: разные материалы могут придавать стеклу разные характеристики для удовлетворения различных потребностей использования.